Couverture sélective des étapes pour les structures microfabriquées

Résumé :

La présente invention concerne de manière générale la métallisation ou le revêtement en couches minces de surfaces optiques dans des dispositifs de banc micro-optiques, et en particulier des masques d'ombre qui fournissent une couverture progressive sélective des surfaces optiques dans des structures microfabriquées dans des dispositifs de banc micro-optiques. En ce qui concerne la fabrication. Généralement, pour produire des composants micro-optiques et des composants MEMS capables de traiter un faisceau lumineux en espace libre se propageant parallèlement à un substrat de silicium sur isolant (SOI), sur une plaquette de silicium sur isolant (SOI). Le procédé DRIE (Deep Reactive Ion Etching) est utilisé pour former des bancs micro-optiques profondément gravés. Traditionnellement, des masques d'ombre à un niveau étaient utilisés pour couvrir les surfaces optiques par étapes dans des bancs micro-optiques profondément gravés et pour une métallisation sélective ou un revêtement en couche mince.