การครอบคลุมขั้นตอนที่เลือกสำหรับโครงสร้างไมโครฟบิเกรต

บทคัดย่อ:

การประดิษฐ์นี้โดยทั่วไปเกี่ยวข้องกับการเคลือบโลหะหรือการเคลือบฟิล์มบาง ๆ ของพื้นผิวออปติคอลในอุปกรณ์ม้านั่งไมโครออปติคอลและโดยเฉพาะอย่างยิ่งหน้ากากเงาที่ให้การครอบคลุมพื้นผิวออปติคัลแบบเลือกในโครงสร้างไมโครเฟกต์ภายในอุปกรณ์ม้านั่งไมโครออปติคอลเกี่ยวกับการผลิต โดยทั่วไปเพื่อผลิตส่วนประกอบไมโครออปติคอลและส่วนประกอบ MEMS ที่สามารถประมวลผลลำแสงในพื้นที่ว่างที่แพร่กระจายขนานกับสารตั้งต้นซิลิคอนออนอินซูเลเตอร์ (SOI) บนเวเฟอร์ซิลิคอนออนอินซูเลเตอร์ (SOI)กระบวนการแกะสลักไอออนเชิงปฏิกิริยาลึก (DRIE) ใช้ในการสร้างม้านั่งไมโครอออปติคอลที่แกะสลักลึกตามธรรมเนียมแล้วมาสก์เงาระดับเดียวถูกนำมาใช้เพื่อครอบคลุมพื้นผิวออปติคอลในม้านั่งไมโครออปติคอลที่สลักลึกและการเคลือบโลหะแบบเลือกหรือเคลือบฟิล์มบาง