La couverture sélective des étapes de la structure du microprocédé

Résumé :

Le masque d'ombre à ouverture à deux niveaux ou plus réalise la couverture par étapes sélective de la microstructure de processus dans un équipement de banc de microoptique. Le masque d'ombre est inclus dans la première ouverture de la surface supérieure du masque d'ombre et dans la deuxième ouverture de la surface inférieure du masque d'ombre. La deuxième ouverture est alignée avec la première ouverture et avec la deuxième largeur de la première largeur car elle est inférieure à la première ouverture. Le chevauchement entre la première ouverture et la seconde ouverture forme un trou dans le masque d'ombre, le sélectif revêtement que le micro Process structure en microoptique un équipement de paillasse peut se trouver à proximité du trou.