微观工艺结构的选择性步骤覆盖率

摘要：

具有两个或更多层次的开口的阴影掩膜实现了微光学台式设备中微工艺结构的选择性阶跃覆盖。阴影掩膜包含在阴影掩模顶表面的第一个开口和阴影掩膜底部的第二个开口中。第二个开口与第一个开口的第二个宽度对齐，因为小于第一个开口。第一个开口和第二个开口之间的重叠形成阴影蒙版中的孔，选择性涂层是微光学中的微观工艺结构台式设备可能在洞口旁出现。