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A cobertura seletiva de etapas da estrutura do microprocesso

Resumo:

A máscara de sombra de abertura com dois ou mais níveis realiza a cobertura seletiva da estrutura de microprocesso em equipamentos de bancada de microóptica. A máscara de sombra está incluída na primeira abertura na superfície superior da máscara de sombra e na segunda abertura na superfície inferior da máscara de sombra. A segunda abertura está alinhada com a primeira abertura e com a segunda largura da primeira largura por ser menor que a primeira abertura. A sobreposição entre a primeira abertura e a segunda abertura se forma máscara de buraco na sombra, o revestimento seletivo que a estrutura do microprocesso em microóptica o equipamento de bancada pode ocorrer junto ao orifício.

Imagens

CN 2016800111622

estados unidos
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inventor:
M·B·Y·S·Y·M·B·A·
destinatário atual:
SI Ware Systems Inc
Status:
Granted
Data de status:
July 30, 2020
domínio:
SI Ware Systems Inc
aplicações em todo o mundo:
2015. us us. 2026. kr au ca wo es ep cn mx jp. 2017. us us 2018. il

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