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La cobertura selectiva de pasos de la estructura del microproceso

Resumen:

La máscara de sombra de apertura con dos o más niveles realiza la cobertura escalonada selectiva de la estructura del microproceso en los equipos de banco de microóptica. La máscara de sombras se incluye en la primera abertura en la superficie superior de la máscara de sombras y en la segunda abertura en la superficie inferior de la máscara de sombras. La segunda abertura está alineada con la primera abertura y con el segundo ancho del primer ancho por ser menor que la primera abertura. La superposición entre la primera abertura y la segunda abertura forma un agujero en la máscara de sombra, el selectivo recubrimiento que la estructura del microproceso en microóptica el equipo de banco puede ocurrir junto al agujero.

Imágenes

CN 2016800111622

estados unidos
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inventor:
M·B·Y·S·Y·M·B·A·
cesionario actual:
SI Ware Systems Inc
Estado:
Granted
Fecha de estado:
July 30, 2020
dominio:
SI Ware Systems Inc
aplicaciones en todo el mundo:
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