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Couverture sélective des étapes pour les structures microfabriquées

Résumé :

Un masque d'ombre comportant au moins deux niveaux d'ouvertures permet de couvrir des étapes sélectives de structures microfabriquées dans un dispositif de banc micro-optique. Le masque d'ombre comprend une première ouverture à l'intérieur d'une surface supérieure du masque d'ombre et une seconde ouverture à l'intérieur de la surface inférieure du masque d'ombre. La seconde ouverture est alignée avec la première ouverture et présente une seconde largeur inférieure à la première largeur de la première ouverture. Un chevauchement entre la première ouverture et la seconde ouverture forme un trou dans le masque d'ombre à travers lequel un revêtement sélectif de structures microfabriquées à l'intérieur du dispositif de banc micro-optique peut être appliqué.

Des images

ÉTATS-UNIES20160246010

états-unis
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inventeur :
Mostafa Medhat, Bassem Mortada, Yasser Sabry, Sébastien Nazeer, Yasseen Nada, Mohamed Sadek, Bassam A. Saadany
cessionnaire actuel :
Systèmes SI Ware SAE SI Ware Systems Inc.
État :
Allowed
Date de statut :
November 4, 2019
domaine :
Systèmes SI Ware SAE SI Ware Systems Inc.
applications dans le monde entier :
2015. États-Unis 2026. kr au ca wo es el cn mx jp. 2017. États-Unis 2018. il

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