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自校准 MEMS 设备

摘要:

本发明一般涉及光学光谱学和光学干涉测量,更具体地说,涉及在光学干涉仪中使用微机电系统(MEMS)技术。 微机电系统 (MEMS) 是指通过微处理技术将机械元件、传感器、执行器和电子设备集成在通用硅衬底上的设备。例如,微电子通常使用集成电路(IC)工艺制造,而兼容的微加工工艺则用于选择性地蚀刻硅晶圆的部分或创建新的结构。添加层以形成机械和机电组件,从而创建微机械组件。微机电系统设备可以低成本批量处理,并且与标准微电子器件兼容,例如光谱学、形状测量、环境传感、折射率测量(或材料识别)以及各种其他传感器应用。此外,由于MEMS设备体积小,因此可以轻松集成到便携式设备或手持设备中。

图片

JP2016515946A

美国
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发明家:
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当前受让人:
Si Ware 系统 SI Ware 系统公司
状态:
Granted
状态日期:
May 9, 2018
域:
Si Ware 系统 SI Ware 系统公司
全球应用程序:
2015. 美国。2026。kr au ca wo es ep cn mx jp. 2017。2017 年美国。2018 年美国。il

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