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微制结构的选择性阶梯覆盖率

摘要:

具有两层或更多开口的阴影遮罩可以选择性地对微型光学台式设备中的微型结构进行阶跃覆盖。阴影蒙版包括阴影蒙版顶部表面内的第一个开口和阴影蒙版底部表面内的第二个开口。第二个开口与第一个开口对齐,第二个开口的宽度小于第一个开口的第一宽度。第一个开口和第二个开口之间的重叠在阴影掩模内形成一个洞,微型光学台架设备内的微结构可以通过该孔进行选择性涂层。

图片

分区:US20200130006A1

美国
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发明家:
Mostafa Medhat、Bassem Mortada、Yasser Sabry、Sebastian Nazeer、Yasseen Nada、Mohamed Sadek、Bassam A. Saadany
当前受让人:
SI Ware 系统公司
状态:
Allowed
状态日期:
November 15, 2022
域:
SI Ware 系统公司
全球应用程序:
2015. 美国。2026。kr au ca wo es ep cn mx jp. 2017。2017 年美国。2018 年美国。il

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